英特尔向松下提供14nm低功耗次世代半导体制造支持
来源:admin 时间:2014-07-10 阅读:次
美国时间的7号,英特尔与松下的System?LSI事业部达成了AV机器用次世代SoC(System-on-Chip)由英特尔生产的契约。通过英特尔的14nm?Tri-gate?Process技术来进行制造,为AV设备带来高性能、低功耗的新可能。
英特尔的低功耗电力版(LP)Process技术采用了第二代的Tri-gate?Process来实现产品的低功耗。全新生产的Planer型Transistor与之前松下自己生产的SoC相比,能够带来更低的电力消费以及更高的性能。 微信号:860275582
松下System?LSI事业部的冈本吉史部长关于此技术表示,"次世代的SoC产品开发是非常重要的。在英特尔的帮助下,采用了14nm?Tri-gate?Process技术,可以预见在未来的产品中我们可以更好的控制产品的电力消耗,同时大大提高性能。"英特尔方面则表示,"通过与松下System?LSI事业部的共同合作,将成为英特尔强化半导体工厂建设和强化的重要一步"。
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